金剛石微粉的生產(chǎn)和應(yīng)用形勢
　　
　　一、金剛石微粉的生產(chǎn)形勢
　　
　　1.1 單晶金剛石微粉：
　　1) 利用靜壓單晶金剛石的Ⅰ型或者Ⅱ型料生產(chǎn),多為金屬型 。
　　2)專門的微粉合成工藝, 可以是金屬結(jié)合型或者樹脂結(jié)合型 。
　　3) 低品級的合成工藝，如8分鐘工藝等。
　　國內(nèi)單晶金剛石的生產(chǎn)量: 40-50億克拉/年, 居世界首位 國內(nèi)單晶金剛石微粉生產(chǎn)量: 4-5億克拉/年(破碎料除外) 。
　　1. 2 聚晶（多晶）金剛石微粉：利用炸藥爆炸產(chǎn)生的高溫以及動高壓、使石墨轉(zhuǎn)化成聚晶金剛石。
　　國內(nèi)外生產(chǎn)量: 約2000-4000萬克拉/年。
　　1.3 爆轟納米金剛石：在負(fù)氧平衡的條件下炸藥爆炸所產(chǎn)生的游離碳原子，在特定條件下形成納米級的金剛石微粉。
　　國內(nèi)外生產(chǎn)量: 1000-2000萬克拉/年, 生產(chǎn)能力很高。
　　二、金剛石微粉的應(yīng)用形勢
　　
　　2.1 傳統(tǒng)寶石拋光: 3um左右的單晶微粉或者研磨膏，是傳統(tǒng)的用途，前景發(fā)展穩(wěn)定。
　　2.2 陶瓷加工：可以使用單晶或者多晶微粉.例如，光纖陶瓷插芯: 微米～亞微米的單晶微粉,應(yīng)用產(chǎn)品有砂輪、研磨液、拋光膜。這方面的應(yīng)用前景良好。
　　2.3 光纖連接器的研磨拋光: 微米～亞微米, 拋光膜 。
　　2.4 玻璃硬盤的紋理加工: 亞微米～納米,聚晶或者納米金剛石拋光液，但是，隨著水平磁記錄向垂直磁記錄技術(shù)的轉(zhuǎn)化，使用量急劇下降！
　　2.5 鋁基硬盤的紋理加工：亞微米～納米, 單晶以及爆轟納米金剛石拋光液，隨著水平磁記錄向垂直磁記錄技術(shù)的轉(zhuǎn)化，使用量也在下降！
　　2.6 磁頭：如GMR磁頭的研磨拋光, 亞微米～納米, 拋光液/拋光膜 。
　　2.7藍(lán)寶石晶片的研磨拋光：微米～亞微米，聚晶/單晶拋光液隨著LED的迅速發(fā)展，前景很好!
　　2.8 超硬金屬輥或者器件的研磨拋光： 微米～亞微米, 拋光膜/研磨膏/砂輪穩(wěn)定發(fā)展。
　　2.9 金屬模具的拋光：微米～亞微米，金剛石拋光液/研磨膏穩(wěn)定發(fā)展。
　　2.10燒結(jié)PCD的原料：微米級微粉隨著PCD工具應(yīng)用面的擴(kuò)大，前景廣闊!
　　2.11 各種磨削工具的原料：各種粒度單晶，仍有廣闊的發(fā)展空間！