1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法，自此，以二氧化硅漿料為代表的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝就逐漸取代了機(jī)械拋光的主導(dǎo)地位；20世紀(jì)80年代中期，...
早上9時(shí)左右，敲開寧波潤平電子材料有限公司董事長惠宏業(yè)的辦公室時(shí)，他正接起當(dāng)天的第5個(gè)電話。電話接二連三，有催訂...
集成電路是現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系的核心樞紐，半導(dǎo)體材料作為集成電路產(chǎn)業(yè)的基石，在集成電路制造技術(shù)不斷升級和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新...
鼎龍股份披露投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表顯示，研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料，對拋光液產(chǎn)品品質(zhì)有較大影響，同時(shí)在拋光液的材料成本中占比較高。公司實(shí)現(xiàn)了研磨粒子的自主制備，有...
拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進(jìn)行機(jī)械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。同時(shí)，磨料也是影響拋光液穩(wěn)定性的重要因素之一。眾多磨料中，SiO2磨料因...
?金太陽12月27日在互動(dòng)平臺(tái)表示，公司參股子公司東莞領(lǐng)航電子新材料有限公司主要產(chǎn)品包括了IC、硅晶圓、碳化硅用半導(dǎo)體拋光液，3C消費(fèi)電子用精密拋光液和清洗液........
化學(xué)機(jī)械拋光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技術(shù)是超大規(guī)模集成電路制造工藝中的關(guān)鍵技術(shù)之一，能實(shí)現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平...
據(jù)臺(tái)灣《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》援引日經(jīng)亞洲今日報(bào)道，日本昭和電工將投資1.5億美元（200億日元）擴(kuò)建其日本及中國臺(tái)灣工廠的半導(dǎo)體CMP拋光液產(chǎn)能，產(chǎn)能總增幅約為20%，新產(chǎn)能預(yù)計(jì)...
3月28日，中國超硬材料網(wǎng)市場總監(jiān)劉小雨、市場經(jīng)理高峰一行走...
公元1278年，此時(shí)的南宋就如零丁洋里的一片到處漏水的孤舟，...
2023年9月20日，時(shí)隔四年，期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會(huì)在鄭州國際會(huì)展中心隆重開幕。本次展覽會(huì)由中國機(jī)械工業(yè)集團(tuán)有限公司、國機(jī)精工股份有限公司、中國機(jī)械國際合作股份有限公司聯(lián)合主辦。旨在推動(dòng)中國磨料磨具行業(yè)的快速發(fā)展，加強(qiáng)國內(nèi)外企業(yè)的交流與合作。
1963年，我國成功研制出第一顆人造金剛石，經(jīng)過幾代人的拼搏奮斗，實(shí)現(xiàn)了從無到有、從小到大、從弱到強(qiáng)的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機(jī)床機(jī)械等領(lǐng)域發(fā)揮著愈發(fā)重要的作用。不僅如此，隨著金剛石技術(shù)的選代，金剛石民用領(lǐng)域—培育鉆石迎來了自己的大爆發(fā)，中國占據(jù)了世界培育鉆石產(chǎn)量的80%以上，近幾年在國際上產(chǎn)生了巨大影響力。
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