真空濺射鍍定義
關(guān)鍵詞 真空濺射鍍|2011-06-28 16:02:30|基礎(chǔ)知識|來源 中國磨料磨具網(wǎng)
摘要 高能離子或中性原子碰撞物體表面，使表面的原子或原子脫離物體的現(xiàn)象，稱為濺射或噴濺。由低壓氣體放電產(chǎn)生的正離子碰撞陰極表面而發(fā)生的濺射，稱為陰極濺射。利用磁控管進(jìn)行的陰極濺射，稱為磁...
高能離子或中性原子碰撞物體表面，使表面的原子或原子脫離物體的現(xiàn)象，稱為濺射或噴濺。由低壓氣體放電產(chǎn)生的正離子碰撞陰極表面而發(fā)生的濺射，稱為陰極濺射。利用磁控管進(jìn)行的陰極濺射，稱為磁控陰極濺射，簡稱磁控濺射。利用上述濺射方式進(jìn)行的真空鍍膜方法，相應(yīng)地稱為濺鍍、陰極濺鍍、磁控陰極濺鍍或磁控濺鍍。
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