超精密磁流變拋光（Magnetorheological Finishing，MRF）技術(shù)自1998年被美國(guó)QED公司成功研制之后，其無應(yīng)力、無亞表面損傷、柔性剪切去除等特性受到國(guó)內(nèi)外眾多科研單位的青睞，與離子束加工技術(shù)（Ion beam figuring，IBF）共同被認(rèn)為是近30年來光學(xué)加工領(lǐng)域最為創(chuàng)新的兩大技術(shù)。而柔性剪切磁流變拋光液、高效去除算法的校正與補(bǔ)償是磁流變工藝技術(shù)的主要核心，美國(guó)QED公司在該領(lǐng)域?qū)ν鈱?shí)行技術(shù)封鎖。 

　　光學(xué)加工是一項(xiàng)極其復(fù)雜的工藝過程，隨著現(xiàn)代精密光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)元件面形精度、光潔度、粗糙度等要求的不斷提升，傳統(tǒng)光學(xué)加工技術(shù)已不能完全適應(yīng)當(dāng)前光學(xué)系統(tǒng)的發(fā)展趨勢(shì)。近期，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所超精密光學(xué)技術(shù)及裝備總體部鐘顯云帶領(lǐng)的精密光學(xué)加工課題組在國(guó)家重大專項(xiàng)課題的支持下，先后突破了雙相基載磁流變拋光液的研制技術(shù)以及基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法，并在現(xiàn)有的MRF設(shè)備上成功解決研究所多塊高難度光學(xué)元件的精密制造。 

　　由于光學(xué)材料性能存在差異，磁流變對(duì)不同材料的去除機(jī)理及效率也不盡相同。課題組對(duì)磁流變拋光液進(jìn)行了多年的理化分析及實(shí)驗(yàn)測(cè)試，對(duì)拋光液的成分及比例做不同程度的調(diào)整，共完成了三種雙相基載磁流變拋光液的研制，分別適用于Fused Silica、Zerodur等常規(guī)光學(xué)玻璃材料、Si、CaF2、ZnSe等軟性材料、Rb-SiC，S-SiC等硬性材料。開發(fā)的基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法，有效地對(duì)光學(xué)元件低頻誤差（f>8mm-1）確定性去除，并有效抑制了中頻誤差，低頻收斂精度由75%提升為93%，中頻誤差由4nm-6nm抑制在1nm以內(nèi)。

　　課題組開展的磁流變工藝技術(shù)驗(yàn)證了光學(xué)元件納米精度制造（平面：rms1.7nm，f/1球面：rms1.8nm），并成功解決了超薄窗口、輕量化結(jié)構(gòu)非球面主鏡（ULE材料）以及超薄自適應(yīng)變形次鏡（Si材料）等高難度元件加工，同時(shí)解決了照明系統(tǒng)CaF2凹凸錐超光滑加工（凸錐面Rq：0.4nm，凹錐面Rq：0.7nm）以及物鏡系統(tǒng)非球面納米精度、超光滑加工（Rq：0.21nm-0.3nm）。 

　　相關(guān)研究成果發(fā)表在SPIE、Optical Engineer上，并已完成8項(xiàng)專利申請(qǐng)。

基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法 

曝光系統(tǒng)核心元件的超光滑制造